近日，国产光刻机龙头企业——上海微电子预计将于2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。目前国产最高制程90纳米的光刻机于2007年由上海微电子交付。时隔13年才传来新突破实属不易。

虽然28纳米的光刻机即将实现国产化，据说可以通过多重曝光的工艺，来实现14纳米或7纳米的芯片制造。但要实现量产，几乎不太可能。中芯国际使用荷兰ASML的DUV 14纳米的光刻机，目前用“N+1”、“N+2”的工艺都没能实现7纳米芯片量产，所以基于工艺和成本28纳米光刻机很难实现更低制程芯片的制造。

上海微电子的光刻机从90纳米到28纳米，历经13年时间才实现三代(60nm、45nm、40nm)技术的跨越，为何如此艰难？有两方面的原因：一是，以美国为主导与多国共同签订的《瓦森纳协定》中规定，高端设备或尖端技术对我国进行出口管控或技术封锁；二是，我国半导体产业因起步晚，产业配套技术不完善。

上海微电子和荷兰ASML都是系统集成商，关键零部件多数来自第三方企业，并不是完全由自己生产。荷兰ASML最先进的EUV光刻机，90%的关键零部件都需要进口。其中，计量设备和光源来自美国、镜头和精密仪器来自德国、轴承来自瑞典等等。可是这些精密仪器和配件均对我国禁运，也就是说，上海微电子要制造28纳米的光刻机，需要等待国内供应链的成熟。

上海微电子28nm光刻机的突破来自国内背后强大的半导体产业链供应商，有北京科益虹的光源系统、国望光学的镜头、华卓精科的浸入式双工作台、浙江启尔机电的浸液系统等等。

面对外界对我国进行技术封锁，我们只能分工协作逐一突破。ASML的EUV光刻机拥有10万个零部件、多个系统协同工作，事实上也证明我们需要对技术聚焦，集中所有精力，做到业术有专攻。这样我们的半导体产业链才更快速地建立或更加完善。

结束语：

光刻机属于半导体产业链其中的一环，以目前28纳米的国产光刻机是不能完成5G、AI技术实现全面应用的。半导体基础技术是我国的薄弱环节，技术需要积累、产业链需要完善，目前所有的技术沉淀就是为以后的更大突破做准备。凭空捏造不出技术，我国的半导体产业要提高自供率，离不开国内相关基础产业的支撑。